目前流行的抛光是湿式抛光，也就是在抛光的过程中加入适量的水，这样可使胚乳和留存在米上的少量米糠的结合力减弱，有利于彻底碾去米糠，提高米的光洁度和抛光均匀度。着水量通常约为大米流量的0.2～0.3。

大米没有皮壳保护，营养物质直接暴露于外，因此，对外界的温、湿、氧的影响比较敏感，吸湿性强，害虫、霉菌易于直接危害，易导致营养物质加速代谢

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